1. Titaanist seemneplaadi pinna oksiidkile on samaväärne hea kauakestva kulumiskindla eraldajaga. Titaanist külviplaadi kasutamine säästab separaatorit, muudab plaadi kergesti kooritavaks ja välistab seemneplaadi eeltöötluse. Titaanist külviplaat on poole kergem kui vasest külviplaat.
2. Titaanist külviplaadi kasutusiga on rohkem kui 3 korda pikem kui vaskseemneplaadi kasutusiga, mis võib vastavalt töötingimustele ulatuda 10 kuni 20 aastani.
3. Titaanist seemneplaadist valmistatud elektrolüütilisel vasel on tihe kristallstruktuur, sile pind ja suurepärane kvaliteet.
4. Kuna titaanist külviplaadile ei ole vaja separaatorit paigaldada, võib see vältida vaskelektrolüüdi saastumist.
5. Tootmisvõimsuse suurendamine vähendab elektrolüütilise vase tootmiskulusid, saavutades seeläbi paremat majanduslikku kasu.
